Primeiro, a origem da pulverização de plasma estabilizada a gás
A pulverização de plasma estável a gás é desenvolvida a partir da pulverização de plasma estável à água no início; na pulverização de plasma anterior, era usada principalmente pulverização de plasma sem transferência, o material de pulverização é um pó. Hoje em dia, a tecnologia de pulverização de plasma desenvolveu-se rapidamente, desde a pulverização inicial de plasma estabilizado com água até a pulverização de plasma estabilizada com gás.
Em segundo lugar, o princípio básico da pulverização de plasma estável a gás
A pulverização de plasma estabilizada a gás ocorre principalmente através do aquecimento de gases inertes (como xenônio, argônio, hélio, nitrogênio, etc.) na pistola de pulverização até o estado de ionização, com a ajuda dos eletrodos positivos e negativos do bico energizado, o alto- arco de frequência gerado nos íons de gás. Os íons gasosos são misturados ao material pulverizado em pó e, sob a ação de um arco de alta frequência, são ejetados a uma velocidade superior a Mach 1 e pulverizados sobre o substrato.
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